TSMC, Samsung и ASML готовят переход с 6- на 12-дюймовые фотошаблоны
Компьютерра ·
Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях ASML, производитель литографического оборудования, расширяет сотрудничество сразу с двумя ключевыми игроками — TSMC и Samsung. Обе инициативы связаны с переходом на 12-дюймовые фотошаблоны для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии с высокой числовой апертурой. Сейчас в производстве используются 6-дюймовые маски. Однако отрасль постепенно движется к более крупному формату. Это не просто увеличение размера — за ним стоит […] Полная версия статьи: TSMC, Samsung и ASML готовят переход с 6- на 12-дюймовые фотошаблоны
Источник: Компьютерра - Журнал о науке и технологиях ASML, производитель литографического оборудования, расширяет сотрудничество сразу с двумя ключевыми игроками — TSMC и Samsung. Обе инициативы связаны с переходом на 12-дюймовые фотошаблоны для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии с высокой числовой апертурой. Сейчас в производстве используются 6-дюймовые маски. Однако отрасль постепенно движется к более крупному формату. Это не просто увеличение размера — за ним стоит […] Полная версия статьи: TSMC, Samsung и ASML готовят переход с 6- на 12-дюймовые фотошаблоны