Китай отстаёт от ASML на 15 лет — EUV-литографию страна может освоить ещё нескоро, считает Zeiss
iXBT.com ·
Китай пока серьёзно отстаёт от мировых лидеров в разработке оборудования для выпуска передовых микросхем, о чем пишет Bloomber со ссылкой на высокопоставленного руководителя немецкой компании Zeiss Group, ключевого поставщика ASML.
Китай пока серьёзно отстаёт от мировых лидеров в разработке оборудования для выпуска передовых микросхем, о чем пишет Bloomber со ссылкой на высокопоставленного руководителя немецкой компании Zeiss Group, ключевого поставщика ASML.
Франк Рохмунд, руководитель подразделения полупроводников компании Zeiss, заявил в эфире Bloomberg TV, что «вполне разумно предположить», что Пекину потребуется 15 лет для разработки машин для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV).
Главным препятствием остаётся EUV-литография — технология, необходимая для массового производства наиболее современных чипов для искусственного интеллекта и высокопроизводительных вычислений. Китай уже работает над собственными установками, но пока основное внимание уделяется более зрелой DUV-литографии.
Экспериментальные китайские EUV-станки, по данным источника, пока значительно уступают западным аналогам и не готовы обеспечить массовый выпуск чипов по передовым техпроцессам. При этом Пекин продолжает активно инвестировать в развитие собственной полупроводниковой отрасли.